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偏心距在偏心抛光中对去除速率均匀性的影响
作者: 李茂 [1] ; 朱永伟 [1] ; 左敦稳 [1] ; 李军 [1] ; 王军 [1]
摘要:从相对运动的角度出发,首先分析了在固结磨料抛光中工具与工件的相对运动轨迹。而后从纯机械去除的角度出发,利用有限元的思想,建立了工件去除速率的数学模型,并分析了偏心距对工件去除速率均匀性的影响规律。结果表明:在偏心距一定时,如果工件外圈有一部分和抛光垫内圈或者外圈相交,那么工件的去除速率沿半径方向的变化为:先增大后急剧减小;如果全部工件完全与抛光垫接触,那么工件的去除速率沿半径方向的变化趋势为不断增大,而且先增大较快,后趋于平缓。在偏心距变化时,当工件完全位于抛光垫上时,随着偏心距的增大,工件上各个半径处的去除速率有明显增大的趋势。
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